RASTERSONDENMIKROSKOPIE / LÖSUNGEN UND SERVICE /
PRESSEMITTEILUNGEN


Kooperation von Zeiss und OMICRON auf dem Gebiet SNOM
Das ULTRAObjective™
Das BEETLE™ UHV-SPM


Kooperation von Zeiss und OMICRON auf dem Gebiet SNOM

Die Firmen Carl Zeiss Jena GmbH und OMICRON Vakuumphysik GmbH haben sich im Rahmen eines Kooperationsvertrages zur gemeinschaftlichen Entwicklung auf dem Gebiet der optischen Nahfeld-Mikroskopie (SNOM) entschlossen. Durch Kombination der klassischen Lichtmikroskopie mit SNOM kann eine optische Auflösung deutlich unterhalb der Lichtwellenlänge erzielt werden. SNOM mit seiner natürlichen Erweiterung zur optischen Spektroskopie, sowie in der Kombination mit hochauflösender Rasterkraftmikroskopie (AFM) erschließt eine Vielzahl neuartiger Anwendungen in der Materialforschung und der Charakterisierung von Oberflächen an Luft und im UHV. Die langjährige Erfahrung der beiden Partner auf dem Gebiet der optischen Mikroskopie und der Rastersondenmikroskopie stellt eine ideale Voraussetzung für eine langfristige und erfolgreiche Zusammenarbeit dar.

Jena & Taunusstein im Mai 1996

Wenn Sie daran interessiert sind, aktuelle Informationen über Ergebnisse dieser Kooperation per Email zu erfahren, dann klicken Sie bitte hier.


Das ULTRAObjectiveTM

Mikroskopieren jenseits der Beugungsgrenze

Ein neuartiges Objektiv öffnet der Mikroskopie neue Wege. Mit ihm kann die klassische Lichtmikroskopie und die höchstauflösende Rastersondenmikroskopie perfekt kombiniert werden.

Mit dem innovativen Objektiv - dem ULTRAObjective™ der Firma Surface Imaging Systems GmbH , Herzogenrath - stellt Carl Zeiss eine extrem leicht zu handhabende Lösung für eine Reihe sehr unterschiedlicher und bisher nur separat zu lösender mikroskopischer Probleme. Das Auflösungsvermögen des optischen Mikroskops wird mit dem Objektiv bis hinunter zu einem Nanometer erweitert. Mikro- und Nanostrukturen können qualitativ und quantitativ charakterisiert werden.

Die hohe Ergonomie und Produktivität klassischer Mikroskopie mit ihren verschiedenen Kontrastarten wird um neue, nichtoptische Verfahren, wie Topografie-, Magnet- und Potentialkontrast erweitert.

Neben extrem hochaufgelösten Abbildungen lassen sich Vermessungen auf einfachste Weise durchführen. Die Anwendungsgebiete reichen dabei von neuen Werkstoffen über mikrobiologische und magnetische Objekte bis zu Halbleiterstrukturen.

Je nach der vorliegenden Aufgabe kann ULTRAObjective™ mit den verschiedenen Mikroskopen von Carl Zeiss kombiniert werden. Besonders leistungsfähige Lösungen ergeben sich mit den kürzlich vorgestellten neuen Universalmikroskopen für Forschung und Routine Axioplan 2 und Axiophot 2.

Das Objektiv wird in den Objektivrevolver eingeschraubt und ist somit in das lichtmikroskopische System integriert. Die relevanten Ausschnitte des mikroskopischen Objektes werden mit einem herkömmlichen Objektiv schnell und bequem gefunden und können dann mit ULTRAObjective™ im Detail untersucht werden.

Durch digitale Mikrofotografie oder Spektroskopie ist das Spektrum von möglichen Objektcharakterisierungen extrem breit, vom Millimeter bis zum Nanometer werden sechs Größenordnungen überstrichen.


Pr.Nr. 3 (Vo)
Januar 1996 d, e, f



Das BEETLETM UHV-SPM

Die neue Generation von Rastersondenmikroskopen

Der Unternehmensbereich Mikroskopie von Carl Zeiss stellt mit BEETLE™ UHV-SPM ein neues Rastersondenmikroskop vor, welches die Vorteile des bekannten BEETLE-Tunnelmikroskopes (vormals Besocke Delta Phi GmbH) mit den Vorzügen eines neuartigen kraftmikroskopischen Sensors verbindet.

Mit BEETLE™ UHV-SPM ist es möglich im UHV, an Luft und in Flüssigkeiten sowohl kraft- als auch tunnelmikroskopischen Untersuchungen an exakt der gleichen Probenstelle vorzunehmen. Dazu wird als Kraftsensor ein Mikroschwingquarz mit leitfähiger Sonde eingesetzt, der es gestattet, ohne zusätzlichen Meßkopf zeitgleich bzw. durch einfache Umschaltung AFM und STM Bilder zu scannen.

Ein weiterer Vorteil ist die Möglichkeit zur Mikro- und Makromanipulation der Probe, die es gestattet, einen Bereich von 5 mm2 mit höchster Auflösung lückenlos zu analysieren. Außergewöhnlich ist die hohe Stabilität durch thermische Driftkompensation und vibrationsunempfindliche Konstruktion.

Das Mikroskop arbeitet mit sub-Angström Auflösung im Temperaturbereich von flüssigem Helium bis 500 °C und eröffnet damit ein weites Feld von Applikationen in der Halbleitertechnologie, der Supraleitungs- und Materialforschung, der Kristallographie bis hin zur Mikrobiologie.

Die kleine und offene Bauweise ermöglicht eine einfache Kombination mit anderen Analyse- und Behandlungsmethoden, wie z.B. insitu-Epitaxi, Laser- und Teilchenstrahlenexperimente sowie chemische und physikalische Oberflächenreaktionen.

Damit nimmt BEETLE™ UHV-SPM eine Sonderstellung in der modernen Oberflächenforschung ein.


Pr.Nr. 29 (Vo)
Juli 1995 d, e, f

Homepage | Unternehmensbereich

Anfragen und Hinweise richten Sie bitte an [email protected].